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技術文章

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  • 20253-24
    差壓式流量計的工作原理及應用

    差壓式流量計是一種常用的流量測量儀器,以下是其工作原理及應用介紹:工作原理差壓式流量計基于伯努利方程和流體連續性方程。當流體流經節流裝置(如孔板、噴嘴、文丘里管等)時,由于節流件的阻礙,流體的流速會發生變化,在節流件前后產生壓力差。根據伯努利方程,流速與壓力之間存在一定的關系,通過測量節流件前后的差壓,并結合已知的流體物性參數和節流裝置的幾何參數,就可以計算出流體的流量。具體來說,根據流體連續性方程,流體在管道中流動時,其質量流量是恒定的。當流體通過節流裝置時,流通面積減小,...

  • 20253-14
    流量計的行業應用

    流量計廣泛應用于多個行業,以下是一些主要的應用領域:石油化工行業·原油開采:在油井開采過程中,需要精確測量原油的產量,以便掌握生產情況,合理安排開采計劃。同時,通過測量注入油井的水、氣等介質的流量,實現有效的油藏管理,提高采收率。·化工生產:在各種化工產品的生產過程中,流量計用于精確控制各種原料的進料量,確保化學反應按照預定的比例進行,從而保證產品質量的穩定性。同時,對生產過程中的中間產物和成品的流量進行監測,有助于優化生產流程,提高生產效率。水處理行業·自來水供應:在自來水...

  • 20253-8
    真空計的行業應用

    真空計在多個行業都有重要應用,具體如下:科研領域物理實驗:在量子物理、等離子體物理等實驗中,常需要超高真空環境來避免氣體分子對微觀粒子的干擾。如在粒子加速器實驗中,真空計用于監測和維持加速器管道內的超高真空,保證粒子束的穩定傳輸和實驗的準確性。化學實驗:在研究化學反應動力學、表面化學等方面,真空計可精確測量反應容器內的真空度,控制反應環境。比如在催化反應研究中,通過真空計確保反應體系的真空度,以準確研究催化劑在不同真空條件下的活性和選擇性。材料科學實驗:在材料的制備和表征過程...

  • 20253-3
    質量流量計的工作原理

    質量流量計的工作原理主要有科里奧利力式、熱式、差壓式等,以下是具體介紹:·科里奧利力式·原理基礎:基于牛頓第二定律F=Ma。當流體在旋轉的管內流動時會產生一個力,即科里奧利力,此力與流體的質量流量成正比。·測量過程:在傳感器內部有兩根平行的流量管,中部裝有驅動線圈,兩端裝有檢測線圈。變送器提供激勵電壓加到驅動線圈上時,振動管作往復周期振動。當流體介質流經傳感器的振動管,會在振管上產生科氏力效應,使兩根振管扭轉振動。安裝在振管兩端的檢測線圈將產生相位不同的兩組信號,這兩個信號的...

  • 20252-19
    流量計的分類

    流量計的分類方式有多種,常見的分類如下:按測量原理分類·力學原理·差壓式流量計:如孔板流量計、文丘里流量計等,基于流體流經節流裝置時產生的壓力差與流量的關系來測量。·容積式流量計:包括橢圓齒輪流量計、腰輪流量計等,通過測量流體連續不斷地填充已知容積空間的次數來計算流量。·速度式流量計:像渦輪流量計、渦街流量計,分別利用葉輪轉速、卡門渦街原理測量流體的平均速度,進而得出流量。·動量式流量計:例如靶式流量計,根據流體沖擊靶板產生與流速成正比的力來測量流量。·沖量式流量計:利用流體...

  • 20252-18
    Alicat氣體質量流量計助力工業控制

    在現代工業控制系統中,對氣體流量的精確測量和快速響應至關重要。Alicat氣體質量流量計具有高精度、高穩定性和快速響應的特性。本文將深入探討Alicat氣體質量流量計的工作原理、優勢以及其在工業控制中的具體應用。一、Alicat氣體質量流量計的工作原理Alicat氣體質量流量計采用先進的熱式質量流量傳感技術,通過測量氣體流過傳感器時引起的溫度變化來計算氣體的質量流量。這種技術具有很高的測量精度和穩定性,不受氣體壓力、溫度和成分變化的影響。同時,Alicat氣體質量流量計還具備...

  • 20252-17
    真空計在光伏行業的應用

    真空計在光伏行業主要用于光伏電池生產過程中的多個關鍵環節,起到精確測量和控制真空度的重要作用,以確保產品質量和生產效率,以下是具體的應用介紹:硅片制備l多晶硅鑄錠:在多晶硅鑄錠爐中,需要通過真空計精確控制爐內真空度。一般來說,在熔化和凝固過程中,需要將真空度控制在10?3至10?2Pa的范圍內,以防止硅液與空氣發生反應,保證多晶硅的純度和晶體結構。l單晶硅拉制:直拉法生長單晶硅時,單晶爐內的真空度通常要達到10??Pa量級。通過真空計實時監測和反饋,使系統能夠及時調整真空泵的...

  • 20252-12
    真空計在半導體行業的應用

    真空計在半導體行業有著廣泛且重要的應用,以下是具體介紹:工藝腔室壓力測量與控制·光刻工藝:光刻是半導體制造中把掩膜版上的圖形轉移到晶圓上的關鍵工藝。光刻過程需要在特定的真空度下進行,以確保光刻膠的均勻性和曝光效果。真空計用于實時監測光刻設備內的壓力,保證壓力穩定在如10?3至10?2Pa的范圍內,使光刻過程不受氣體分子干擾,提高光刻精度,確保芯片圖案的準確性。·刻蝕工藝:刻蝕是去除晶圓表面不需要的材料以形成電路圖案的工藝。不同的刻蝕工藝對真空度要求不同,例如反應離子刻蝕通常需...

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